等離子預(yù)處理結(jié)合在線去氧化技術(shù),助力功率模塊制造實(shí)現(xiàn)卓越可靠性與優(yōu)異成品率
德國(guó)施泰因哈根2025年11月12日 /美通社/ -- 隨著汽車、工業(yè)及數(shù)據(jù)中心領(lǐng)域?qū)Ω咝阅芄β孰娮悠骷男枨蟪掷m(xù)增長(zhǎng),制造商正面臨日益嚴(yán)峻的工藝挑戰(zhàn):需要提供體積更小、功率更高且具備卓越可靠性的模塊。等離子預(yù)處理與REDOX®-Tool去氧化技術(shù)的協(xié)同應(yīng)用,正成為解決功率模塊生產(chǎn)中長(zhǎng)期存在難題的革新性方案。
功率模塊是現(xiàn)代電氣化進(jìn)程的核心組件,但其制造過(guò)程長(zhǎng)期面臨附著力不足、焊點(diǎn)空洞、層間分層及熱管理效率低下等工藝難題。 Plasmatreat的Openair-Plasma®預(yù)處理技術(shù)提供潔凈、干燥且可控的表面活化方案,結(jié)合REDOX®-Tool在連續(xù)生產(chǎn)流程中有效去除表面氧化物,形成完整工藝閉環(huán)。這套解決方案使鍵合質(zhì)量獲得突破性提升,缺陷率顯著下降,最終構(gòu)建起更高階的模塊可靠性體系。
等離子處理工藝已成為新一代功率模塊制造的關(guān)鍵推動(dòng)技術(shù)。結(jié)合REDOX®-Tool的在線去氧化處理能力,制造商們能獲得無(wú)污染、高活性的理想表面——從而實(shí)現(xiàn)更牢固的界面結(jié)合、更優(yōu)異的熱管理性能,以及大幅降低的現(xiàn)場(chǎng)故障率。
等離子預(yù)處理結(jié)合REDOX®-Tool的技術(shù)優(yōu)勢(shì)
微米級(jí)清潔與氧化物還原:有效去除有機(jī)殘留物與金屬氧化物,顯著改善焊料潤(rùn)濕性,提升界面結(jié)合完整性。
表面活化:提升表面能,強(qiáng)化引線鍵合、芯片貼裝材料與密封劑的附著力。
免助焊處理:減少對(duì)化學(xué)底涂劑與助焊劑的依賴,降低污染風(fēng)險(xiǎn)并簡(jiǎn)化生產(chǎn)流程
在線集成:兼容自動(dòng)化產(chǎn)線,實(shí)時(shí)工藝控制確保處理效果一致可重復(fù)
熱界面優(yōu)化:實(shí)現(xiàn)無(wú)空隙界面結(jié)構(gòu),提升導(dǎo)熱性能,有效降低模塊熱點(diǎn)溫度并增強(qiáng)電流承載能力
效益提升成果:采用該組合技術(shù)的制造商反饋,生產(chǎn)效率提升達(dá)40%,并切實(shí)降低了因焊點(diǎn)老化或涂層分層導(dǎo)致的現(xiàn)場(chǎng)故障率
工藝應(yīng)用
等離子處理方案在以下領(lǐng)域成效顯著:
- 模塊組裝關(guān)鍵工序:引線框架清潔、引線鍵合、芯片封裝及表面涂覆
- 高電流應(yīng)用場(chǎng)景:大功率車載逆變器、車載充電設(shè)備及工業(yè)電源模塊,這些應(yīng)用通常面臨嚴(yán)苛的熱循環(huán)與振動(dòng)應(yīng)力挑戰(zhàn)
- 半導(dǎo)體制造與核心供應(yīng)商需求:適用于追求更高產(chǎn)能、更低報(bào)廢率及更強(qiáng)器件可靠性的晶圓廠與一線供應(yīng)商
Plasmatreat作為常壓等離子表面處理技術(shù)的全球領(lǐng)導(dǎo)者,技術(shù)方案已覆蓋汽車制造至電子工業(yè)等多元領(lǐng)域。在半導(dǎo)體與功率電子制造行業(yè),全球頂尖企業(yè)均信賴這項(xiàng)等離子創(chuàng)新技術(shù),借以提升界面結(jié)合可靠性、控制污染風(fēng)險(xiǎn)并優(yōu)化工藝效率。
了解等離子技術(shù)應(yīng)用的更多詳情,歡迎蒞臨:
- 慕尼黑電子生產(chǎn)設(shè)備博覽會(huì)(productronica)A2館445展位
- 歐洲半導(dǎo)體展(SEMICON Europa)B1館136展位
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